-
Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Durchführung einer
Entspiegelungs- bzw.
Antireflexionsbehandlung auf einem Substrat aus einem organischen
Werkstoff, insbesondere auf einer ophthalmischen Linse, wobei die
Technik des Aufbringens durch Vakuumverdampfung zur Anwendung kommt.
Für derartige
Beschichtungen werden im Allgemeinen metallische Oxide bzw. Metalloxide
mit hohem und niedrigem Brechungsindex eingesetzt.
-
Die
Wirksamkeit einer Antireflexionsbehandlung hängt zum großen Teil von den Werten der
Brechungsindizes der aufgebrachten Schichten ab. Aufgrund der Schwierigkeiten,
die mit der Art der eingesetzten Beschichtung sowie mit der Beschaffenheit
der zu behandelnden Substrate verbunden sind, kann nur eine beschränkte Auswahl
an Materialien für
diese Behandlungen eingesetzt werden.
-
Von
den Herstellern wird erwartet, dass sie immer leistungsfähigere Antireflexionsbehandlungen
entwickeln. Zur Information sei angemerkt, dass im Bereich der Augenheilkunde
die Wirksamkeit einer solchen Behandlung, ausgedrückt als
Reflexionsgrad einer Fläche,
für eine
Behandlung mit geringer Wirksamkeit zwischen 1,6 und 2,5% und für eine Behandlung
mit mittlerer Wirksamkeit zwischen 1,0 und 1,8% liegt, während sie
heutzutage für
eine hochwirksame Behandlung zwischen 0,3 und 0,8% betragen muss.
-
Aufgrund
dieser Anforderungen werden neuartige Werkstoffe erforscht, deren
großtechnischer
Einsatz gelegentlich Schwierigkeiten bereitet. Ein weiterer Lösungsweg
kann darin bestehen, Werkstoffe zu verwenden, die bislang ausschließlich für Substrate
aus mineralischen Stoffen eingesetzt wurden.
-
Um
eine Antireflexionsbehandlung von hoher Wirksamkeit durchzuführen, muss
die letzte aufgebrachte Schicht einen Index aufweisen, der so niedrig
wie möglich
ist. Für
organische Substrate wird oftmals SiO2 verwendet,
und zwar aufgrund seines Brechungsindex von 1,48, seiner guten Eigenschaften
hinsichtlich des Haftvermögens,
der Kratzfestigkeit und der Korrosionsbeständigkeit sowie seiner Eignung
zum problemlosen Aufbringen.
-
Für Substrate
aus mineralischen Stoffen findet MgF2 weitverbreitete
Anwendung, und zwar aufgrund seines sehr niedrigen Brechungsindex
von 1,38. Der Nachteil dieses Werkstoffs besteht darin, dass er
spröde ist
und eine unzureichende Haftung zeigt, wenn er bei Temperaturen von
weniger als 200°C
aufgebracht wird.
-
Für organische
Substrate wird MgF2 im Allgemeinen nicht
verwendet, da diese nicht auf Temperaturen von mehr als 150°C erhitzt
werden können,
ohne dabei zu vergilben und Schaden zu nehmen.
-
Daher
ist es erstrebenswert, ein Verfahren zu entwickeln, mittels dessen
es möglich
ist, MgF2 auf ein organisches Substrat aufzubringen
(sogenanntes kaltes Beschichtungsverfahren), sowie weitere geeignete Werkstoffe
zu finden.
-
Aus
dem Schriftstück
JP 8-236635 ist das Aufbringen
einer MgF
2-Schicht auf ein organisches Substrat mittels
der Kathodenzerstäubungstechnik
bekannt. Die mittels Kathodenzerstäubung aufgebrachten Schichten
zeigen indes besondere physikalisch-chemische Eigenschaften. Insbesondere
weisen die aufgebrachten Schichten im Allgemeinen eine größere Dichte
auf, was hinsichtlich des Haftverhaltens zu Problemen führen kann.
Aus dem Schriftstück
ist zu entnehmen, dass die Herstellung einer solchen Beschichtung
im Vakuumverdampfungsverfahren zu Schichten mit einem geringen Kristallisationsgrad
führt,
was sich wiederum in einer unzureichenden Abreibfestigkeit niederschlage.
-
In
dem Schriftstück
EP-A-619504 ist
ebenfalls eine mehrschichtige Anordnung mit Antireflexionswirkung
auf einem organischen Werkstoff aus dem Bereich der Augenheilkunde
beschrieben, wobei deren letzte Schicht aus MgF
2 besteht.
Das am häufigsten
angewendete und kostengünstigste
Beschichtungsverfahren ist indes die Vakuumverdampfung ohne Plasmaunterstützung. Darüber hinaus
weisen Schichten, die durch Verdampfung mit Plasmaunterstützung erhalten
werden, eine höhere
Dichte auf als solche, die ohne Unterstützung erhalten wurden. Eine
erhöhte
Dichte zieht indes starke Belastungen innerhalb der Schichten nach
sich, was wiederum zu einer schlechteren Haftung führen kann.
-
In
dem Schriftstück
JP 61250601 ist ebenfalls
eine mehrschichtige Anordnung mit Antireflexionswirkung auf einem
organischen Substrat beschrieben. Gemäß dem Schriftstück wird
SiO
2 als äußere Schicht mit niedrigem
Brechungsindex verwendet, und es werden vorzugsweise drei Schichten
des Typs Y
2O
3/TiO
2/SiO
2 übereinander
angeordnet. Beim Aufbringen der mehrschichtigen Anordnung wird die
Grenzschicht mindestens einer der Schichten durch Innenbeschuss
behandelt. Durch diese Behandlung kann das Haftungsverhalten der Schichten
verbessert werden. Die Verwendung von MgF
2 als
Werkstoff mit niedrigem Brechungsindex ist in diesem Schriftstück werden
beschrieben noch wird sie angedeutet.
-
In
dem Schriftstück
JP 7076048 ist ebenfalls
eine mehrschichtige Anordnung mit Antireflexionswirkung, welche
auf ein organisches Substrat aufgebracht wird, beschrieben. Es wird
angegeben, dass die äußere Schicht,
aus MgF
2, bei niedriger Temperatur mit Ionenunterstützung (IAD-Technik,
Ion Assisted Deposition) aufgebracht wird und dass die Oberfläche, auf
welche diese Schicht aufgebracht wird, zuvor eine Reinigungsbehandlung
durch Ionenbeschuss und/oder durch Plasmaeinwirkung erfährt. Es
ist indes festzustellen, dass die Anwendung der IAD-Technik eine
Reihe von Nachteilen aufweist. Diese Art von Unterstützung wird
im Allgemeinen eingesetzt, um die Dichte der aufgebrachten Schichten
zu erhöhen.
Im Gegenzug weisen Schichten größerer Dichte
ein geringeres Haftungsvermögen
auf. Darüber
hinaus kann die Ionenunterstützung
die Absorptionsfähigkeit
der MgF
2-Schicht erhöhen, was bei Anwendungen im
Auge einen sehr störenden
Nachteil darstellt. Schließlich
erhöht
diese Art von Unterstützung
den verfahrenstechnischen Aufwand und zieht eine spürbare Erhöhung der
Herstellungskosten nach sich.
-
Die
Erfindung besteht also darin, ein Verfahren bereitzustellen, welches
dazu dient, eine mehrschichtige Anordnung bzw. einen Schichtstapel
mit Entspiegelungs- bzw. Antireflexionswirkung mittels Vakuumaufdampfung
bzw. mittels Fällens
von vakuumverdampftem Material bzw. mittels Vakuumverdampfung bei
einer Temperatur von weniger als 150°C an bzw. auf einem organischem
Substrat herzustellen, wobei das Verfahren die Schritte des Aufbringens
mindestens einer Schicht aus einem Werkstoff, dessen Brechungsindex
sich von MgF2 unterscheidet, der Vorbereitung
der Oberfläche
des auf diese Weise beschichteten Substrats sowie des Aufbringens
einer äußeren Schicht
aus MgF2 ohne Ionenunterstützung aufweist.
Vorzugsweise erfolgt die Vakuumverdampfung bei einer Temperatur
von weniger als 100°C.
-
Für die Oberflächenvorbereitung
wird vorzugsweise eine der folgenden Behandlungen gewählt: Ionenbeschuss,
Elektronenbeschuss, chemischer Angriff ex situ.
-
Gemäß einer
bevorzugten Ausführungsform
besteht die Schicht aus einem Werkstoff mit hohem Brechungsindex,
welcher aus der Gruppe der einfachen Oxide oder Mischoxide oder
Oxidgemische der Metalle der Gruppen IIIb, IVb, Vb, VIb, VIIb und
der Lanthanide gewählt
ist. Vorzugsweise sind die Metalle aus der Gruppe von Pr, La, Ti,
Zr, Ta und Hf gewählt.
Noch größeren Vorzug
genießen
die Werkstoffe mit hohem Brechungsindex, die aus der folgenden Gruppe
gewählt
sind: ZrO2, PrTiO3,
Gemische von Pr2O3 und
TiO2, Gemische von Pr6O11 und TiO2, Gemische
von La2O3 und TiO2 sowie Gemische von ZrO2 und
TiO2.
-
Gemäß einer
Ausführungsform
handelt es sich bei der Werkstoffschicht mit einem Brechungsindex, der
sich von MgF2 unterscheidet, um einen harten Überzug.
Gemäß einer
anderen Ausführungsform
handelt es sich bei der Werkstoffschicht mit einem Brechungsindex,
der sich von MgF2 unterscheidet, um eine
stoßfeste
Schicht. Gemäß einer
weiteren Ausführungsform
handelt es sich bei der Werkstoffschicht mit einem Brechungsindex,
der sich von MgF2 unterscheidet, um eine
interferenzreduzierende bzw. interferenzmindernde bzw. streifenfreie
Schicht.
-
Vorzugsweise
wird bei dem Verfahren die Werkstoffschicht mit einem Brechungsindex,
der sich von MgF2 unterscheidet, aufgebracht,
bevor eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex aufgebracht wird.
Vorzugsweise weist die Schicht mit niedrigem Brechungsindex eine
Dicke von 40 bis 200 mm, vorzugsweise von 60 mm, auf.
-
Gemäß einer
Ausführungsform
umfasst der Schritt des Aufbringen des Materials bzw. Werkstoffs,
dessen Brechungsindex sich von MgF2 unterscheidet,
die Schritte des Aufbringens einer ersten Schicht aus einem Werkstoff,
dessen Brechungsindex sich von MgF2 unterscheidet,
das Aufbringen einer Schicht aus einem Werkstoff mit niedrigem Brechungsindex
und das Aufbringen einer zweiten Schicht aus einem Werkstoff, dessen
Brechungsindex sich von MgF2 unterscheidet.
-
Vorzugsweise
besteht die Schicht mit niedrigem Brechungsindex aus SiO2. Es wird bevorzugt, dass die erste Schicht
aus einem Werkstoff, dessen Brechungsindex sich von MgF2 unterscheidet,
eine Dicke von 10 bis 40 nm aufweist. Es wird ferner bevorzugt,
dass die Schicht aus einem Werkstoff mit einem niedrigen Brechungsindex
eine Dicke von 10 bis 100 nm aufweist.
-
Vorteilhafterweise
weist die zweite Schicht aus einem Werkstoff, dessen Brechungsindex
sich von MgF2 unterscheidet, eine Dicke
von 50 bis 150 nm, vorzugsweise von 120 bis 130 nm, auf.
-
Bei
dem organischen Substrat handelt es sich vorzugsweise um eine Polycarbonatverbindung.
Vorzugsweise weist die äußere Schicht
aus MgF2 eine Dicke von 50 bis 100 nm, vorzugsweise
von 80 bis 90 nm, auf.
-
Gemäß einer
Ausführungsform
weist das erfindungsgemäße Verfahren
den nachfolgenden Schritt des Aufbringens einer Schicht, welche
die Oberflächenenergie
verändert,
auf.
-
Die
Erfindung betrifft ferner ein organisches Substrat, welches mit
einer mehrschichtigen Anordnung mit Antireflexionswirkung beschichtet
ist, wobei es sich insbesondere um eine Augenlinse handelt, die
mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens
hergestellt werden kann.
-
Weitere
Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden
Beschreibung von Ausführungsformen
der Erfindung, welche als Beispiele und unter Bezug auf die beigefügte Zeichnung
angeführt
werden, wobei die Zeichnung Folgendes zeigt:
-
Einzige
Figur: Schichtstapel mit Antireflexionswirkung, welche gemäß einer
Ausführungsform
der Erfindung hergestellt wurde. Die Forschungsarbeiten und Versuche,
die von der Anmelderin auf dem Gebiet des Aufbringens von MgF2 auf organische Substrate mittels Vakuumverdampfung
unternommen wurden, haben zu der Feststellung geführt, dass
es entgegen der Auffassung, welche in der Literatur vertreten wird,
möglich
ist, derartige Schichten durch Vakuumverdampfung herzustellen, ohne
sich der Ionenunterstützung
zu bedienen.
-
Ein
Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens
besteht darin, dass es das Aufbringen dieser Schichten unter kostengünstigeren
Begleitumständen
ermöglicht.
-
Ein
weiterer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahren besteht darin,
dass seine Anwendung es ermöglicht,
organische Substrate zu erhalten, die Schichten aufweisen, welche
dieselben physikalisch-chemischen Eigenschaften zeigen wie diejenigen,
die auf mineralische Substrate aufgebracht werden.
-
Darüber hinaus
ermöglicht
es die Erfindung, mehrschichtige Anordnungen bzw. Schichtstapel
mit Entspiegelungs- bzw. Antireflexionswirkung auf organischen Substraten
herzustellen, welche die angeforderten Merkmale oder Eigenschaften
aufweisen, insbesondere hinsichtlich des Haftverhaltens, aber auch
hinsichtlich der Kratzfestigkeit.
-
Ein
Beispiel für
eine mehrschichtige Anordnung, die mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens
hergestellt werden kann, ist in der Figur dargestellt und wird nachstehend
beschrieben (die Brechungsindizes werden für eine Wellenlänge von
550 nm angegeben, die Angaben zur Dicke beziehen sich auf die physikalische Dicke).
-
Im
Rahmen der Erfindung sind unter "organischen
Substraten" Substrate
aus Polymerwerkstoffen zu verstehen, im Gegensatz zu Substraten
mineralischem Glas. Insbesondere wird auf Substrate aus Polycarbonat,
Polymethylmethylacrylat, Polythiourethan und Poly(bisphenol-A-bisallylcarbonat)
Bezug genommen, und insbesondere auf das Poly(diethylenglycolbisallylcar
bonat), welches im Handel unter der Bezeichnung CR39 erhältlich ist.
-
Gemäß der in
der Figur dargestellten Ausführungsform
ist ein organisches Substrat (1) mit einem harten Überzug (2)
versehen, der auch als "hard
coat" bezeichnet
wird. Dieser harte Überzug
weist typischerweise eine Dicke zwischen 300 und 10.000 nm auf.
Im Allgemeinen besteht er aus Siliziumdioxid oder aus einem Lack,
beispielsweise aus einem Epoxid- oder Polysiloxanlack. Es ist weiterhin
möglich,
eine Polymerisationsschicht, die vorzugsweise ebenfalls aus einem
Polysiloxan besteht, unter Plasmaeinwirkung aufzubringen und/oder
eine DLC-Dünnschicht
(englische Abkürzung
für "diamond-like coating", eine diamantartige
Beschichtung). Dieser harte Überzug
ist indes nicht zwangsläufig
erforderlich.
-
Die
Schichtstapel mit Antireflexionswirkung, welche erfindungsgemäß aufgebracht
wird, weist eine Schicht aus einem Werkstoff auf, dessen Index sich
von demjenigen des MgF2 unterscheidet (4).
Bei diesem Werkstoff kann es sich beispielsweise um einen Lack oder
um SiO2 handeln.
-
Gemäß einer
bevorzugten Ausführungsform
besteht diese Schicht aus einem Werkstoff mit hohem Brechungsindex.
Im Rahmen der Erfindung werden solche Werkstoffe als "Werkstoff mit hohem
Brechungsindex" bezeichnet,
deren Brechungsindex höher
als 1,6 ist und vorzugsweise 2 bis 2,6 beträgt. In der Praxis werden für mehrschichtige
Anordnungen mit Antireflexionswirkung meist Werkstoffe mit hohem
Brechungsindex eingesetzt, deren Brechungsindex 1,9 bis 2,3 beträgt.
-
Bei
derartigen Werkstoffen mit hohem Brechungsindex, die sich für den Einsatz
im erfindungsgemäßen Verfahren
eignen, handelt es sich beispielsweise um einfache Oxide oder Mischoxide
oder Oxidgemische von Metallen der Gruppen IIIb, IVb, Vb, VIb, VIIb
und der Lanthanide. Vorzugsweise werden einfache Oxide oder Mischoxide
oder Oxidgemische der Metalle Pr, La, Ti, Zr, Ta, Hf eingesetzt,
von denen ZrO2, PrTiO3,
Gemische aus Pr2O3 und
TiO2, Gemische aus Pr6O11 und TiO2, Gemische
aus La2O3 und TiO2 sowie Gemische aus ZrO2 und
TiO2 besonderen Vorzug genießen.
-
Die
Schicht aus einem Werkstoff mit hohem Brechungsindex kann indes
selbst wiederum aus einer mehrschichtigen Anordnung, die weitere
Schichten aufweist, bestehen. So ist bei der mehrschichtigen Anordnung
gemäß der Ausführungsform,
die in der Figur dargestellt ist, die Schicht aus einem Werkstoff
mit hohem Brechungsindex (4) in zwei Schichten (4)
und (4')
aufgeteilt, die durch eine Schicht aus einem Werkstoff mit niedrigem
Brechungsindex (3')
getrennt sind. Vorteilhafterweise können die Schichten aus einem
Werkstoff mit hohem Brechungsindex (4) und (4') aus demselben
Werkstoff bestehen.
-
Die
Schicht aus einem Werkstoff mit hohem Brechungsindex (4)
kann ebenfalls in eine größere Anzahl von
getrennten Schichten aufgeteilt sein, und zwar durch Schichten aus
Werkstoffen mit niedrigerem Brechungsindex.
-
Die
Schichten mit niedrigem Brechungsindex (3) und (3'), die innerhalb
der mehrschichtigen Anordnung, welche gemäß der dargestellten Ausführungsform
hergestellt wurde, vorhanden sind, können aus einem Werkstoff bestehen,
dessen Brechungsindex niedriger als derjenige des Substrat ist,
insbesondere kleiner als 1,5. Bei derartigen Werkstoffen handelt
es sich beispielsweise um SiO2 oder um Metallfluoride,
wobei SiO2 bevorzugt ist. Vorteilhafterweise
bestehen die Schichten (3) und (3') aus demselben Werkstoff.
-
Die
Schichtstapel mit Antireflexionswirkung, welche erfindungsgemäß hergestellt
wurde, weist eine äußere Schicht
mit niedrigem Brechungsindex (5) auf, die aus MgF2 gebildet ist. In der Literatur wird die
Auffassung vertreten, dass dieser Werkstoff nur schwierig mit zufriedenstellenden
Eigenschaften aufzubringen sei, wenn dies mit Hilfe von Techniken
geschieht, die mit organischen Werkstoffen verträglich sind, das heißt bei niedriger
Temperatur. Es wurde jedoch herausgefunden, dass ein Aufbringen
ohne Ionenunterstützung
auf eine untere Schicht, welche eine Vorbereitung erfahren hat,
zu Substraten von bemerkenswerter Qualität führt.
-
Dieser
erfindungsgemäße Vorbereitungsschritt
kann beispielsweise in einer Behandlung durch Ionenbeschuss, Elektronenbeschuss
oder auch einem chemischen Angriff ex situ bestehen.
-
In
der mehrschichtigen Anordnung, die gemäß einer Ausführungsform
der Erfindung hergestellt wurde, wird das MgF2 in
einer Dicke von 50 bis 100 nm, vorzugsweise von 80 bis 90 nm, aufgebracht.
-
Es
ist möglich,
auf die äußere Schicht
aus MgF2 eine oder mehrere Schichten aufzubringen,
welche es ermöglichen,
die Oberflächenenergie
zu verändern,
sodass die Reinigung erleichtert wird, und/oder eine Schicht, welche
es ermöglicht,
den elektrostatischen Effekt zu verringern, wie beispielsweise eine
leitfähige Schicht.
-
Es
hat sich erwiesen, dass es das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht,
und zwar insbesondere dank des Schritts zur Vorbereitung des Substrats,
welches möglicherweise
vor dem Aufbringen des MgF2 bereits mit
anderen Schichten überzogen
wurde, mehrschichtige Anordnungen mit Antireflexionswirkung herzustellen,
die hinsichtlich des Haftverhaltens, der Kratzfestigkeit, der Beständigkeit
gegen chemische Angriffe sowie der Einfachheit der Reinigung sehr
zufriedenstellende Eigenschaften aufweisen.
-
BEISPIELE
-
Um
die mehrschichtigen Anordnungen bzw, Schichtstapel mit Entspiegelungs-
bzw. Antireflexionswirkung, die gemäß dem Verfahren der Erfindung
hergestellt wurden, zu charakterisieren, wurden auf organischen
Substraten (CR39) mehrschichtige Anordnungen mit Antireflexionswirkung
mit verschiedenen Werkstoffen mit hohem Brechungsindex hergestellt.
-
Die
Substrate wurden mit einer mehrschichtigen Anordnung aus vier Schichten
des Typs SiO2/HI/SiO2/HI/MgF2/Top coat beschichtet (HI bedeutet Werkstoff
mit hohem Brechungsindex).
-
Das
erfindungsgemäße Verfahren
wurde in einem Vakuumverdampfungsgerät des Typs Balzers BAK 760
durchgeführt.
-
Die
verschiedenen HI-Werkstoffe, die zum Einsatz kamen, sind in der
untenstehenden Tabelle aufgeführt.
Die jeweiligen Bezugsquellen sind in Klammern angegeben. Mit sämtlichen
Werkstoffen mit hohem Brechungsindex wird je ein Substrat hergestellt,
bei welchem die letzte Schicht aus HI-Werkstoff eine Minute lang in
Gegenwart von Argon als Gas einem Ionenbeschuss mit einer Spannung
von 100 V und einem Strom von 1 A ausgesetzt wird, während bei
einem zweiten Substrat die Ionenbeschussbehandlung entfällt. Anschließend wird
durch Vakuumver bzw. -aufdampfung ohne Ionenunterstützung MgF2 aufgebracht.
-
In
den angegebenen Beispielen werden die Substrate mit einem Lack auf
Basis von Silanhydrolysaten, wie etwa gemäß der Beschreibung in der französischen
Patentschrift
FR 2 702 486 der
Anmelderin und insbesondere gemäß der Beschreibung
in Beispiel 3, beschichtet.
-
Bei
der äußeren Schicht,
welche es ermöglicht,
die Reinigung zu erleichtern, handelt es sich um einen Werkstoff
des Typs hydrophobes fluororganisches Silan. Beispielsweise wird
ein Werkstoff, der von der Firma Optron unter der Bezeichnung OF
110 vertrieben wird, zur Herstellung dieser Schicht verwendet.
-
Die
Substrate, welche auf diese Weise erhalten wurden, werden anschließend einer
Reihe von Prüfungen
unterzogen, um ihre Leistungseigenschaften zu bewerten.
-
Die
Substrate werden einer Prüfung
unterzogen, die als N × 10
Schläge
bezeichnet wird und in der Anmeldung
WO99/49097 beschrieben
ist. Bei dieser Prüfung
wird die Haftung der Dünnschichten,
die auf ein organisches Substrat aufgebracht wurden, auf die Probe
gestellt. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 1 aufgeführt, wobei
die konkaven Flächen
(CC) von den konvexen Flächen
(CX) des Substrats unterschieden werden. Es zeigt sich, dass die
Substrate, welche gemäß dem Verfahren
der Erfindung hergestellt wurden, zu Ergebnissen führen, die
mindestens vergleichbar sind, bei den meisten Werkstoffen mit hohem
Brechungsindex jedoch besser.
-
Die
Substrate wurden ferner einer Prüfung
unterzogen, die als "Stahlwolleprüfung" bezeichnet wird. Diese
Prüfung
wird mit Hilfe einer extra feinen Stahlwolle mit der Nr. 000 von
STARWAX durchgeführt.
Ein Stück
Stahlwolle von ungefähr
3 cm wird gefaltet und mit konstantem Druck auf das beschichtete
Substrat einwirken gelassen. Nach 5 Hin- und Herbewegungen wird
der Zustand des Substrats visuell bewertet und eine Note nach der
folgenden Skala vergeben:
1 Substrat unverändert, keine Kratzer oder Vorhandensein
feiner, örtlich
begrenzte Kratzspuren
3 Substrat weist stärkere Kratzer und leichte Ablösungen (weiße Kratzspuren)
auf
5 Substrat weist fast auf der gesamten Prüffläche weiße Kratzspuren
auf (Ablösung
des Lacks oder des entsprechenden Substrats). Das Ergebnis entspricht
demjenigen, das bei der Stahlwolleprüfung von CR39 ohne Lack erhalten
wird. Tabelle 1
HI-Werkstoff | N × 10 Schläge Erfindungs-gemäß | N × 10 Schläge Vergleich | Stahlwolle erfindungsgemäß | Stahlwolle Vergleich |
| CC | CX | CX | CC | | |
PrTiO3(Bea Merck) | > 12 | > 12 | > 12 | > 12 | 1,2 | 5 |
Gemisch
aus Pr6O11 und TiO2(Cerac) | > 12 | > 12 | | | 1,3 | |
LaTiO3(H4 Merck) | > 12 | > 12 | > 12 | > 12 | 1,4 | 3 |
Gemisch
aus La2O3 und TiO2(Aldrich) | > 12 | > 12 | > 12 | > 12 | 1 | |
ZrO2(Optron) | > 12 | > 12 | > 12 | > 12 | 1,2 | 5 |
Gemisch
aus ZrO2 und TiO2(OM4
Optron) | > 12 | > 12 | > 12 | 9 | 2 | 5 |
TiO2(Merck) | > 12 | > 12 | 3 | 3 | 3 | 5 |
Ta2O5(Merck-Optron) | > 12 | > 12 | 9 | 9 | 3 | 5 |
HfO2(Merck-Optron) | > 12 | > 12 | 3 | 3 | 3 | 5 |
-
Die
Substrate, welche mit Skalenwerten bis zu 3 bewertet wurden, bestehen
die Prüfung,
während
die mit 5 bewerteten durchfallen. Die Prüfung wird jeweils an 5 bis
10 Substraten vorgenommen, woraufhin der Mittelwert gebildet und
in Tabelle 1 aufgeführt
wird.
-
Es
zeigt sich, dass die Ergebnisse der Stahlwolleprüfung bei den Substraten, die
dem Ionenbeschuss ausgesetzt wurden, sehr zufriedenstellend sind,
während
sämtlich übrige Substrate
zu schlechten Ergebnissen führen.
Mit den Werkstoffen PrTiO3, Gemisch aus
Pr6O11 und TiO2, LaTiO3, Gemisch
aus La2O3 und TiO2, ZrO2 sowie Gemisch
aus ZrO2 und TiO2 werden
besonders bemerkenswerte Ergebnisse erzielt.
-
Zusammenfassend
ist zu sagen, dass bei sämtlichen
geprüften
Werkstoffen, die in der Tabelle aufgeführt sind, die Leistungswerte,
welche in der Prüfung
N × 10
Schläge
und in der Stahlwolleprüfung
erzielt wurden, dem Essilor-Standard genügen.
-
Aus
diesen Feststellungen ergibt sich, dass wir ein Verfahren zum kalten
Aufbringen von MgF2 auf ein organisches
Substrat entwickelt haben, bei welchem die Anwendung von IAD nicht
erforderlich ist. Dieses Verfahren ermöglicht es darüber hinaus,
MgF2-Schichten aufzubringen, deren Eigenschaften
denjenigen von heiß aufgebrachten
Schichten ebenbürtig
sind.
-
Das
organische Substrat, welches erfindungsgemäß mit einer mehrschichtigen
Anordnung mit Antireflexionswirkung beschichtet wurde, kann in verschiedenen
Gebieten, insbesondere in der Optik, zur Anwendung kommen. Es ist
ganz besonders bei der Herstellung von ophthalmischen Linsen bzw.
Augenlinsen von Nutzen.